（原标题：EUV光刻的浩劫题） 公众号铭记加星标??，第一时期看推送不会错过。 起头：内容来自semiengineering。 要使高NA EUV 光刻时刻阐扬作用，需要选择稳健制造的程序来拼接电路或对更大的掩模进行全面蜕变。 曝光场之间的电路拼接对高数值孔径 (0.55) EUV 调养的策画、良率和可制造性残忍了挑战。替代决议是透澈将 6×6 英寸掩模版改为 6×11 英寸掩模版，从而破除电路拼接，但需要险些全都更换掩模版制造基础要领。 当代多核 SoC 具有越来越大的片上内存，常常难以保抓

本站音讯，久日新材(688199)06月12日在投资者联系平台上复兴投资者暖和的问题。 投资者：董秘你好，公司光刻胶是否有供货国产算力芯片产业链关联公司？久日新材董秘：尊敬的投资者您好！公司光刻胶暂未向国产算力芯片产业链关联公司供货，有产物正在考据阶段。感谢您对久日新材的关注！投资者：贵公司的UV涂料能否用于铜缆高速电缆?久日新材董秘：尊敬的投资者您好！公司不坐蓐UV涂料，公司的光激发剂能用于铜缆高速电缆的涂覆。感谢您对久日新材的关注！投资者：公司光固化产物能否用于航空航天鸿沟？久日新材董秘：

（原标题：久日新材(688199.SH)：光刻胶产物已向国内头部厂商送样） 格隆汇6月12日丨久日新材(688199.SH)在投资者互动平台默示，现在，公司光刻胶产物已向国内头部厂商送样，正在考证阶段。